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西電團隊攻克芯片散熱世界難題:氮化鎵射頻芯片性能提升30%到40%

2026-01-17 21:58    來源: 云財經    影響力評估指數:17.82  
云財經訊,據西安電子科技大學官方,近日,郝躍院士張進成教授團隊的最新研究在這一核心難題上實現了歷史性跨越——他們通過將材料間的“島狀”連接轉化為原子級平整的“薄膜”,使芯片的散熱效率與綜合性能獲得了飛躍性提升。這個問題自2014年相關成核技術獲得諾貝爾獎以來,一直未能徹底解決,成為制約射頻芯片功率提升的最大瓶頸。工藝的突破直接轉化為器件性能的驚人提升。基于這項創新的氮化鋁薄膜技術,研究團隊制備出的氮化鎵微波功率器件,在X波段和Ka波段分別實現了42 W/mm和20 W/mm的輸出功率密度。這一數據將國際同類器件的性能紀錄提升了30%到40%,是近二十年來該領域最大的一次突破。這意味著,在芯片面積不變的情況下,裝備探測距離可以顯著增加;對于通信基站而言,則能實現更遠的信號覆蓋和更低的能耗。更深遠的影響在于,它為推動5G/6G通信、衛星互聯網等未來產業的發展,儲備了關鍵的核心器件能力。
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